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纳米二氧化硅抛光液是一种具有化学机械抛光性能的抛光液，适用于硅片、化合物晶体、精密光学器件、电子磁性材料、宝石等纳米级积压纳米级抛光加工。
本研磨液的PH=7为中性，用户可以根据不同的研磨对象，自行调整其PH值为酸性（ph-2-3)或碱性（ph=9-10）。
在电子磁性材料的研磨抛光中，用户自行调配，配合碳化硅磨料，经超声分散制成的酸性研磨液（ph=2）对碳化硅的分散起到良好的作用，大大提高了研磨的效率。
在宝石研磨抛光中，既可以单独使用分散液，用于不规则凹面的喷射抛光，也可以与碳化硅等材料配合使用制作PH值为碱性的研磨液，以提高碳化硅等材料的分散性，提高研磨效率。
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